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钌是铂族金属中性质非常特殊的元素，具有熔点高、硬度大、不易机械加工等特点。钌粉的制备是从20世纪40年代在欧洲开始的。制备钌粉对其中氧、氮、碳等杂质元素含量有严格的要求，钌粉中氧、氮含量的高低直接影响到钌靶中杂质氧、氮的含量，会影响其性能。特征1.纯度基本在4N（99.99%）以上，并且纯度与半导体工业中的线宽工艺有关。对于0.35μｍ线宽工艺，要求靶材纯度在4N5（99.99%）以上，对于0.25μｍ线宽工艺，溅射靶材纯度则必须在5N（99.999%）甚至6N（99.9999%）以上，且不含放射性元素。2.靶材中的晶粒尺寸必须控制在50μｍ以Chemicalbook下，最好为等轴晶，靶材没有明显的织构。主要应用钌粉目前的应用范围与银粉、金粉等其他贵金属粉末相比没那么广泛，其在集成电路、有机合成反应及钌系厚膜电阻浆料等方面的特殊作用是不可替代的。集成电路:当前钌粉末的最大用途之一是生产钌靶材，并以钌靶材作为计算机硬盘记忆材料。另外，钌靶材作为电容器电极膜也大量应用在集成电路产业中。有机合成反应:钌粉在催化许多有机合成反应方面表现出来了高效选择性及催化活性。钌系厚膜电阻浆料:钌粉在集成电路中主要用于形成溅射薄膜而作为电容器电极膜。而在钌系厚膜电阻浆料中导电相为RuO2、钌酸盐等，钌粉末只是作为添加剂应用于其中。